山东太阳光谱模拟工厂

s25，根据太阳高度角和拍摄位置高程，计算相对大气光学质量。在本实施例一可行的方式中，根据其中，z表示地理位置(l(x)，b(y))处的海拔高度，r(α，z)为相对大气光学质量。s26，根据相对大气光学质量，计算直射辐射大气透明度系数，并根据直射辐射大气透明度系数，计算散射辐射大气透明度系数。在本实施例一可行的方式中，根据τd(α，z)＝0.56×(e-0.56r(α，z)+e-0.096r(α，z))×k1(8)计算晴天无云条件下的直射辐射大气透明度系数，其中，τd(α，z)为所述直射辐射大气透明度系数，k1为常系数，根据大气质量浑浊程度，取值范围例如可以为0.8≤k1≤0.9。这种太阳能电池非常昂贵，但研究者认为其**重要的是表明了所能达到的效率上限。山东太阳光谱模拟工厂

可选地，根据散射辐射大气透明度系数和太阳高度角，计算太阳散射辐射强度，包括：根据，计算太阳散射辐射强度es(α，z)，k2为常系数，取值范围通常为0.6≤k2≤0.9。(三)有益效果本发明提供一种太阳光照补偿值计算方法，至少包括以下有益效果：通过地球静止轨道卫星光学遥感图像的尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻和拍摄位置高程，计算拍摄时刻的太阳赤纬角、太阳时角、太阳高度角、太阳辐射强度、大气光学质量、直射辐射大气透明度系数、直接辐射强度、散射辐射大气透明度系数、散射辐射强度、太阳总辐照强度，实现对于不同日期、不同时间、不同地点拍摄的地球静止轨道卫星光学遥感图像的太阳光照补偿值计算，并且计算复杂度低，运行速度快，算法简单，易于工程实现。安徽AM0太阳光谱模拟销售溅镀制备低发射率膜：在第二真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铜离子沉积在步骤。

技术实现要素：(一)要解决的技术问题针对于现有技术问题，本发明提出一种太阳光照补偿值计算方法，用于至少部分解决上述技术问题。(二)技术方案本发明提供一种太阳光照补偿值计算方法，用于对地球静止轨道卫星光学遥感图像进行光补偿，包括：获取地球静止轨道卫星光学遥感图像尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻及拍摄位置高程；根据地球静止轨道卫星光学遥感图像尺寸、地理经度区间、地理纬度区间、拍摄日期、拍摄时刻和拍摄位置高程，计算地球静止轨道卫星光学遥感图像拍摄位置的太阳直接辐射强度和太阳散射辐射强度；根据太阳直接辐射强度和太阳散射辐射强度，计算地球静止轨道卫星光学遥感图像的太阳总辐照强度；针对于不同拍摄日期、和/或不同拍摄时间、和/或拍摄位置对应的地球静止轨道卫星光学遥感图像，计算各自对应的太阳总辐照强度相互之间的差值，得到各个地球静止轨道卫星光学遥感图像各像素之间的太阳光照补偿值。

阳光是一种**度、易获得的光源，包括数千个“内置”的校准光谱特征。许多研究都需要用到这种质量的光源，例如日光诱导叶绿素荧光；植被，作物和矿物的地物光谱，高光谱，以及多光谱测试；地球大气层研究等等。LightMachinery的高分辨率光谱仪，不但可以用来测试太阳光谱，也可以利用其高分辨率测试的夫朗和费线反演太阳自转，大气水汽等等。显示太阳光谱**直接的方法是将直射阳光耦合到连接到光谱仪输入端口的光纤中。某些型号的LightMachinery光谱仪提供了必要的光通量和灵敏度来记录太阳光谱，只需将光纤端部大致对准太阳的方向即可。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例。

根据τs(α，z)＝0.2710-0.2939×τd(α，z)(9)其中，τs(α，z)为散射辐射大气透明度系数。s27，根据大气层上界垂直入射时的太阳辐射强度、直射辐射大气透明度系数和太阳高度角，计算太阳直接辐射强度。在本实施例一可行的方式中，根据ed(d，α，z)＝e(d)×τd(α，z)×sinα(x，y，d，t)(10)计算太阳直接辐射强度ed(d，α，z)。s28，根据散射辐射大气透明度系数和太阳高度角，计算太阳散射辐射强度。在本实施例一可行的方式中，根据计算太阳散射辐射强度es(α，z)，k2为常系数，根据大气质量浑浊程度，取值范围通常为0.6≤k2≤0.9。s103，根据太阳直接辐射强度和太阳散射辐射强度，计算地球静止轨道卫星光学遥感图像的太阳总辐照强度。在本实施例一可行的方式中，根据撞击出来的铜离子沉积在步骤1)制得的强化膜的外表面上形成低发射率膜。安徽AM0太阳光谱模拟销售

撞击出来的铬离子与通入的氮气发生化学反应生成氮化铬，反应生成的氮化铬沉积。山东太阳光谱模拟工厂

4)反应性溅镀制备过渡膜：在第四真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气与氮气发生化学反应生成氮氧化铬、氮化铬以及氧化铬，反应生成的氮氧化铬、氮化铬以及氧化铬沉积在步骤3)制得的缓冲膜的外表面上形成过渡膜；步骤4)中，靶材为铬靶，功率为15kw，电压为510v，真空度为8.0e-6torr，镀膜速度为6mm/s，氩气流量为90sccm，氮气流量为70sccm，氧气流量为50sccm，制得的过渡膜的厚度为70nm；5)反应性溅镀制备吸收膜：在第五真空镀膜室中，氩离子撞击靶材，撞击出来的铬离子与通入的氧气发生化学反应生成氧化铬，反应生成的氧化铬沉积在步骤4)制得的过渡膜的外表面上形成吸收膜；山东太阳光谱模拟工厂

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